مدلسازی فرایند رسوب بخار شمیایی آرسنید گالیوم(CVD)
73 بار بازدید -
2 سال پیش
-
در این فصل از آموزش
در این فصل از آموزش به شبیه سازی و تحلیل فرایند رسوب بخار شیمیایی آرسنید گالیوم بر روی یک زیرلایه میپردازیم. این روش یک فرایند پر اهمیت در صنعت الکترونیک هست که یک لایه نازک بر روی یک بستر مناسب رشد میکند. در این مثال ابتدا واکنش های شیمیایی به طور جداگانه مدلسازی شده سپس فرایند رسوب بر روی سطح بررسی میشود. این مدلسازی شامل انتقال حرارت، جریان سیال، انتقال گونه و واکنشهای شیمیایی میباشد. در طول آموزش با کلیه شرایط مورد نیاز جهت این شبیه سازی و نحوه خروجی گرفتن به طور کامل آشنا خواهیم شد.
2 سال پیش
در تاریخ 1401/03/16 منتشر شده
است.
73
بـار بازدید شده